Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學惰性
更新時間：2026-02-09
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廠商性質：經銷商
生產地址：德國
簡要描述：
Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學惰性 化學惰性與環(huán)境穩(wěn)定性LD-A-級CaF?晶體具備 化學惰性，在常溫下不與強酸（除濃H?SO?、HF外）、強堿、有機溶劑發(fā)生反應，可耐受半導體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學環(huán)境的腐蝕，表面無變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無潮解、霧化
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農產品,化工,生物產業(yè),制藥/生物制藥 |
Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學惰性
化學惰性與環(huán)境穩(wěn)定性
LD-A-級CaF?晶體具備 化學惰性，在常溫下不與強酸（除濃H?SO?、HF外）、強堿、有機溶劑發(fā)生反應，可耐受半導體光刻工藝中的光刻膠、顯影液、蝕刻液等化學環(huán)境的腐蝕，表面無變色、溶蝕現(xiàn)象。晶體表面經疏水/疏油鍍膜處理后，水接觸角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高濕度（RH≤95%）環(huán)境下使用無潮解、霧化問題。
此外，晶體的抗輻射性能經優(yōu)化，在193nm高功率激光長期輻照（累計能量≥10? J/cm2）下，無明顯的色心形成，光學性能衰減≤1%，遠優(yōu)于普通CaF?晶體（衰減≥5%），保障光學元件的長壽命使用，降低高光學系統(tǒng)的維護成本。
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）核心技術參數表
| 參數類別 | 具體指標 | 測試條件/說明 |
| 線性吸收系數 | ≤0.001 cm?1 | λ=193nm，室溫 |
| 193nm透光率 | ≥92% | 厚度10mm，未鍍膜 |
| 光學均勻性 | Δn≤1×10??/cm | 20℃，λ=632.8nm |
| 雙折射 | ≤5×10?? | 193nm波段 |
| 熱膨脹系數 | 18.9×10?? K?1 | 20℃~200℃ |
| 熱導率 | 9.7 W/(m·K) | 25℃ |
| 維氏硬度 | 158 HV | 500g載荷 |
| 抗激光輻照性能 | 性能衰減≤1% | 累計能量≥10? J/cm2@193nm |
| 表面粗糙度 | Ra≤0.5nm | 拋光面 |
| 化學惰性 | 耐酸堿/有機溶劑（除HF、濃H?SO?） | 常溫，浸泡72小時沈陽漢達森yyds吳亞男 |
Hellma氟化鈣LD-A-級CaF?晶體具備化學惰性
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